Band alignment of TiN/HfO2 interface of TiN/HfO2/SiO2/Si stack - 铁电器件课题组（王晓磊） | LabXing

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铁电器件课题组（王晓磊）

简介半导体存储器件

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Band alignment of TiN/HfO2 interface of TiN/HfO2/SiO2/Si stack

2012

期刊 Applied Physics Letters

作者 Xiaolei Wang · Kai Han · Wenwu Wang · Hong Yang · Jing Zhang · Xueli Ma · Jinjuan Xiang · Dapeng Chen · Tianchun Ye

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卷 100
期 10
页码 102906
AIP Publishing
ISSN: 0003-6951
DOI: 10.1063/1.3693188

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